Processus acide direct de cuivrage ; Cuivrage acide direct sur le substrat en acier ; Cuivrage lumineux
FI-ZL001
Processus acide direct de cuivrage
Caractéristiques
• C'est cuivrage acide libre de cyanure sur le substrat d'acier et de fer, particulièrement approprié à l'électrodéposition continue.
• Ce peut être la couche de base, du cuivrage semi-lumineux d'alcali au lieu nickel ou de nickel ou de cyanure de watt.
• L'épaisseur de couche de cuivrage a pu être atteinte plus de 200μm.
• Il ne contient pas le cyanure, ainsi il est facile de traiter les eaux usées et a peu de pollution à l'environnement.
• L'entretien du bain est simple et la durée de vie est longue.
• Cuivrage à grande vitesse, efficacité à forte intensité, et bonne capacité de électrodéposition profonde, particulièrement appropriée au grand cuivrage ultra-rapide actuel bobine à bobine.
États d'opération
| États d'opération | Gamme (électrodéposition de support) | Maquillage de Bath |
| Sulfate de cuivre (CuSO4·6H2O) | 100~150g/L | 100g/L |
| Acide sulfurique (H2SO4) | 100~150g/L | 70g/L |
| 5~25ml/L | 25ml/L | |
| B | 50~100ml/L | 50ml/L |
| C | 50 ~100ml/L | 50ml/L |
| Temp | 20~40℃ | 30℃ |
| Densité de courant de cathode | 1~10A/dm2 | 3A/dm2 |
| Filtre | Filtration continue | |
| Émoi | Cathode basculant ou agitation d'air | |
| Anode | Cuivre de phosphore | |
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