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Sn-839 continuous bright tin plating process

Procédé d'étamage brillant continu Sn-839

  • Taper
    Placage d'étain brillant
  • Utiliser
    Étamage
  • Article
    agent chimique auxiliaire
  • Fonctionnalité
    placage à grande vitesse
  • Lieu d'origine
    Chine
  • Nom de marque
    FENGFAN
  • Numéro de modèle
    Sn-839
  • Quantité de commande min
    Négociable
  • Prix
    Négociable
  • Détails d'emballage
    Emballage d'exportation standard
  • Délai de livraison
    15-25 jours ouvrables
  • Conditions de paiement
    LC, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
  • Capacité d'approvisionnement
    200000pcs / jour

Procédé d'étamage brillant continu Sn-839

Sn-839 procédé de placage continu d'étain brillant

Le Sn-839Il est conçu pour les bandes, les fils, les connecteurs, les cadres en plomb, etc.Les principales caractéristiques et avantages du procédé sont brièvement décrits ci-dessous.

 

1Lele revêtement estpas facile à produire des trous d'épingle et du brouillard,et peut obtenirrevêtement lumineux uniformedans une large gamme de courants.

2, sans plomb et sans cadmium, conforme aux réglementations ROHS et ELV.

3,Très basproduits biologiquescontenu, une décoloration minimale après traitement à la vapeur et à la chaleur, une excellente soudabilité.

4, haut rendement en courant, solution de placage stable, facile à contrôler.

5Le revêtement conserve sa bonne ductilité et soudabilité même après stockage.

 

Composition de la solution

 

Optimale          Portée

- Je ne sais pas2+                                               50.0g/L                                    50 à 80g/L

Acide méthanesulfonique        200g/L                                    150 à 220g/L

- Je ne sais pas-839Une porteuse            20en ml/Je...                                      15 à 25en ml/Je...

- Je ne sais pas-839B. Pour éclaircissant       5en ml/Je...                                        3 à 10en ml/Je...

Temps.              18 à 25 ans°C            18 à 25°C

Densité du courant cathodique    20Une/dm2                                                        5 à 40Une/dm2

L'anode:Zone de la cathode      2:1                                          2:1

Voltage                                         1 à 3 V                                        1 à 3 V

Taux de dépôt            Au moins 10 microns par minute à une densité de courant de 20 A/dm2