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FFI-22 Bright Acid Copper Plating Additive for Barrel Plating with Bright Deposit and Uniform Fine-Grained Finish

FFI-22 Additif de Cuivrage Acide Brillant pour Cuivrage au Tonneau avec Dépôt Brillant et Finition Uniforme à Grain Fin

  • Mettre en évidence

    Additif de Cuivrage au Cuivre à Dépôt Brillant

    ,

    Cuivrage Acide Brillant Uniforme

    ,

    FFI-22 à Grain Fin

  • Couleur
    liquide bleu
  • Taper
    Additif de placage en cuivre
  • Caractéristiques
    Placier en cuivre acide en baril
  • Lieu d'origine
    Chine
  • Nom de marque
    FENGFAN
  • Numéro de modèle
    FFI-22

FFI-22 Additif de Cuivrage Acide Brillant pour Cuivrage au Tonneau avec Dépôt Brillant et Finition Uniforme à Grain Fin

Procédé de cuivrage acide brillant en tonneau FFI-22


INTRODUCTION
FFI-22 est un procédé de cuivrage acide brillant formulé pour produire un dépôt de cuivre fin, à excellent pouvoir couvrant,
uniforme et brillant. Le procédé présente la meilleure capacité de placage uniforme. Il est destiné au
placage en tonneau.


AVANTAGES
L'excellente capacité de placage uniforme, même le placage à travers les trous ;
Le dépôt présente de la brillance et une excellente capacité de placage uniforme ;
Le dépôt n'est pas sujet aux contraintes et convient aux tests de cycles thermiques ;
Il n'est pas nécessaire de traiter la solution de placage avec du charbon actif pendant une longue période.


COMPOSITION STANDARD DU BAIN



Unité Plage Optimale
CuSO4•5H2O g/L 60 - 100 80
H2SO4 %(v/v) 9 - 12 10
Clˉ mg/L 30 - 80 50
FFI-22 R mL/L 4 - 6
FFI-22 Mu mL/L 3 - 6


FFI-22 R sera consommé en raison de l'anode devenant du phosphore lors de la nouvelle
composition.
FFI-22 R est un appoint.
FFI-22 Mu est une composition.


TempératureP0OTempératureI TempératureCOTempératureD

 

I

ON

ÉlémentPlage

Température0

0C5

Densité de courant

Densité de courant 4 Densité de courant