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FF-5100 Non-cyanide Alkaline Copper Plating Chemicals for Fast Deposition and Stable Process in Electroplating

FF-5100 Produits chimiques de cuivrage alcalin non cyanurés pour une déposition rapide et un processus stable en galvanoplastie

  • Mettre en évidence

    Produits chimiques de cuivrage rapide

    ,

    Produits chimiques de cuivrage pour galvanoplastie à processus stable

    ,

    Agent auxiliaire chimique respectueux de l'environnement

  • Taper
    Aviveur
  • Article
    Agent auxiliaire chimique
  • Utiliser
    Cuivrage
  • Fonctionnalité
    Dépôt rapide, processus stable
  • caractéristiques
    Ne contenant pas de cyanure
  • Nom
    Produits chimiques pour le placage de cuivre par électroplatage
  • Lieu d'origine
    CHINE
  • Nom de marque
    FENGFAN
  • Numéro de modèle
    FF-5100
  • Quantité de commande min
    Négociable
  • Prix
    Négociable
  • Détails d'emballage
    Emballage d'exportation standard
  • Délai de livraison
    15-25 jours de travail
  • Conditions de paiement
    L / C, D / A, D / P, T / T, Western Union, Moneygram
  • Capacité d'approvisionnement
    200000pcs / jour

FF-5100 Produits chimiques de cuivrage alcalin non cyanurés pour une déposition rapide et un processus stable en galvanoplastie

FF-5100  Procédé de cuivrage alcalin non cyanuré


Le cuivrage alcalin non cyanuré FF-5100 est respectueux de l'environnement et peut répondre aux exigences environnementales de l'industrie de la galvanoplastie.

 

1. Caractéristiques

1.1   Non cyanuré, adapté au cuivrage direct des substrats en fer et en acier, également adapté aux alliages d'aluminium et de zinc.

1.2   Excellente dispersion et couverture, revêtement fin, lisse, doux et d'une certaine brillance.

1.3   Supplément à un seul composant, opération simple, large plage de température, peut être à 40 ~ 50 .

1.4   La surface du revêtement n'est pas hydrophobe, sans enlever le film, peut être directement plaquée avec du nickel ou d'autres métaux.

 

2. Composition de la solution et paramètres du processus

2.1 Flux de processus :

Prétraitement lavage lavage activation acide lavage lavage cuivrage (FF-5100) Lavage   Post-traitement

 

2.2 composition de la solution de placage  

 

composition

gamme

optimal

FF-5100 M

400~600ml/L

500 ml/L

Température

40~55

50

PH

9~10

9.5

Densité de courant cathodique

1.0~3.0 A/dm2

2.0 A/dm2

Densité de courant cathodique (placage en tonneau)

0.5~2.0 A/dm²

1.0 A/dm²

Anode

Cuivre électrolytique

Cuivre électrolytique

Surface anodique : surface cathodique

1:1

11~2

Filtre

continu

continu

Agiter

Agitation à l'air ou mécanique

Air  agitation