Série de cuivre épais par placage autocatalytique ; Cuivrage autocatalytique sur dispositifs électroniques
Série de cuivre épais par placage autocatalytique
Détails du produit
Vitesse de dépôt du cuivre 3~6 μm/h, jusqu'à une épaisseur maximale de 25μm et plus ; Basse température de fonctionnement, bonne stabilité de la solution de placage.
Idéal pour le cuivrage autocatalytique des dispositifs électroniques.
Conditions de spécification du processus
| FF-7606A | 60ml/L |
| FF-7606B | 120ml/L |
| FF-7606C | 20ml/L |
| FF-7606D | 40ml/L |
| LD-7606E | 1ml/L |
| HCHO | 7ml/L |
| Temp. | 38~42℃ |