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FF-5101 Non-Cyanide alkaline thick Copper Process

FF-5101 Processus de cuivre épais alcalin non cyanure

  • Mettre en évidence

    Plaquage au cuivre alcalin non cyanure

    ,

    Produits chimiques pour le placage de cuivre épais

    ,

    FF-5101 procédé de placage du cuivre

  • Taper
    D'une épaisseur
  • Article
    Agent auxiliaire chimique
  • Utiliser
    Cuivrage
  • Caractéristiques
    Ne contenant pas de cyanure
  • Nom
    Produits chimiques pour le placage de cuivre par électroplatage
  • Lieu d'origine
    Chine
  • Nom de marque
    FENGFAN
  • Numéro de modèle
    Les produits de la catégorie 1
  • Quantité de commande min
    Négociable
  • Prix
    Négociable
  • Détails d'emballage
    Emballage standard d'exportation
  • Délai de livraison
    15-25 jours ouvrables
  • Conditions de paiement
    LC, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
  • Capacité d'approvisionnement
    200000 pièces/jour

FF-5101 Processus de cuivre épais alcalin non cyanure

Procédé alcalin sans cyanure FF-5101 pour le dépôt de cuivre épais respectueux de l'environnement
1. Caractéristiques

Bonne stabilité de la solution de placage et haute efficacité de dépôt ; haute efficacité de courant, bonne capacité de dispersion, particulièrement adaptée au traitement de la pénétration du carbone et de l'azote dans le domaine des équipements, et également adaptée à l'utilisation du placage de cuivre continu nécessitant une cristallisation soignée. Le revêtement est réglable et semi-brillant. La formule sans cyanure réduit considérablement la pollution de l'environnement ; la couche de placage présente une bonne soudabilité, une bonne conductivité et une bonne résistance à la décoloration ; elle peut être appliquée dans les industries des appareils électriques, de l'électronique, des équipements de télécommunication et de la fabrication d'instruments et de compteurs.

  1. Le revêtement de ce procédé est fin et dense, et la différence d'épaisseur entre le revêtement à haut et bas potentiel est faible et uniforme.
  2. Large plage de densité de courant et excellente capacité de couverture.
  3. Haute tolérance aux impuretés organiques ou inorganiques et facilité de contrôle.
  4. Contrôle d'opération simple, peut être plaqué par suspension ou par rouleau ;
2. Flux de processus :

Pré-traitement lavage activé placage de cuivre (FF-5101) (placage d'autres germes). Composants de la solution de placage :

forme portée
FF-5101M 900~1000 ml/L
FF-5101R Agent complexant d'appoint
FF-5101Cu Cu2+ d'appoint
Température 40~60 ℃
PH > 12
Densité de courant cathodique 0.5~3 A/dm2
Anode cuivre électrolytique
Surface anodique, Surface cathodique 1~2﹕ 1
filtre continuation
agiter Agitation mécanique ou mouvement de cathode