Bonne stabilité de la solution de placage et haute efficacité de dépôt ; haute efficacité de courant, bonne capacité de dispersion, particulièrement adaptée au traitement de la pénétration du carbone et de l'azote dans le domaine des équipements, et également adaptée à l'utilisation du placage de cuivre continu nécessitant une cristallisation soignée. Le revêtement est réglable et semi-brillant. La formule sans cyanure réduit considérablement la pollution de l'environnement ; la couche de placage présente une bonne soudabilité, une bonne conductivité et une bonne résistance à la décoloration ; elle peut être appliquée dans les industries des appareils électriques, de l'électronique, des équipements de télécommunication et de la fabrication d'instruments et de compteurs.
Pré-traitement lavage activé placage de cuivre (FF-5101) (placage d'autres germes). Composants de la solution de placage :
| forme | portée |
|---|---|
| FF-5101M | 900~1000 ml/L |
| FF-5101R | Agent complexant d'appoint |
| FF-5101Cu | Cu2+ d'appoint |
| Température | 40~60 ℃ |
| PH | > 12 |
| Densité de courant cathodique | 0.5~3 A/dm2 |
| Anode | cuivre électrolytique |
| Surface anodique, Surface cathodique | 1~2﹕ 1 |
| filtre | continuation |
| agiter | Agitation mécanique ou mouvement de cathode |